Intel en ASML leggen basis voor de volgende generatie AI-chips
Intel Foundry en ASML hebben op de SPIE Photomask Technology + EUV Lithography-conferentie nieuwe mijlpalen bekendgemaakt in de uitrol van High-NA EUV-lithografie. Inmiddels zijn er meer dan één miljoen wafelplaten verwerkt met de nieuwste generatie extreem ultraviolet (EUV)-scanners.
De High-NA-technologie wordt door Intel Foundry al ingezet in volumeproductie voor geselecteerde lagen van de Intel Core Ultra Series 3-processoren (codenaam Panther Lake). Volgens de chipfabrikant voldoen de prestaties, de beschikbaarheid en de verwerkingssnelheid (throughput) aan de verwachtingen, en presteren de op het Intel 18A-proces gefabriceerde lagen gelijk aan of beter dan lagen die met eerdere EUV-systemen zijn geproduceerd.
Oplossing voor huidige én toekomstige maskers
Een belangrijke doorbraak is dat klanten de voordelen van High-NA EUV nu al kunnen benutten met de huidige standaard 6-inch fotomaskers. Dankzij door Intel Foundry ontwikkelde 'stitching'-technieken en Process Design Kits (PDKs) kunnen ontwerpers complexe chips bouwen zonder te hoeven wachten op nieuwe maskerformaten.
Tezelfdertijd werken Intel Foundry en ASML al meer dan drie jaar samen met het bredere ecosysteem van maskermakers, EDA-partners en materiaalleveranciers aan de overstap naar grotere 6x12-inch maskers voor toekomstige schaalvergroting.
Pioniersrol in de chipindustrie
"Intel Foundry speelt een leidende rol in de adoptie van High-NA, van de installatie van het eerste commerciële EXE-systeem in 2024 tot de levering van het eerste volumeproduct," stelt ASML-CEO Christophe Fouquet. "We waarderen hun pioniersrol en hun innovaties om vandaag al waarde te leveren met 6-inch maskers, evenals hun ondersteuning voor de overstap naar 6x12-inch maskers."
Naga Chandrasekaran, topman bij Intel Foundry, vult aan dat bedrijven die steeds complexere AI-producten bouwen, behoefte hebben aan productierijpe en eenvoudig toe te passen innovaties: "Wij richten ons op het direct beschikbaar maken van High-NA EUV en werken nauw samen met ASML en de hele industrie om de transitie naar grotere maskers soepel te laten verlopen."
Foto: De RGX Container is een gespecialiseerde actieve, geconditioneerde luchtvrachtcontainer van 20 voet, gebouwd door VRR voor het veilige wereldwijde transport van ASML’s ultrasensitieve en hoogwaardige halfgeleiderapparatuur.