Samsung en Innovation Industries investeren in Nearfield Instruments
Nearfield Instruments, een TNO spin-off uit Delft, heeft twee investeerders heeft gevonden waardoor Nearfield Instruments de ontwikkeling kan starten van zijn eerste ultra snelle high-throughput Atomic Force Microscopy (HT-AFM) systeem voor metrologie van geavanceerde IC's. Hiermee kan bestaande AFM tot 1000x sneller worden gemaakt dan voorheen. Dit maakt de AFM-oplossing van Nearfield Instruments van groot belang voor de halfgeleiderindustrie, aldus TNO.
Samsung Venture Investment Corporation en Innovation Industries, een Nederlands investeringsfonds voor hightech innovaties in Nederland, investeren samen 10 miljoen euro. Nearfield Instruments is een spin-off van de Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk onderzoek TNO. TNO blijft aandeelhouder in Nearfield Instruments.
De wereld vraagt om steeds weer krachtiger en energiezuiniger elektronica voor mobiele apparaten en computersystemen. Om nieuwe functionaliteiten mogelijk te maken en om optimaal gebruik te maken van de beschikbare ruimte op de wafer, zullen IC’s met behulp van nieuwe, gevoelige materialen kleiner worden naar afmetingen op atomaire schaal en tegelijkertijd in een volledige driedimensionale configuratie worden ontworpen. Om deze trends op technologisch en economisch haalbare wijze tegemoet te komen, zijn doorbraken in metrologieprocessen en apparatuur voor IC ontwikkeling en productie noodzakelijk. Zonder deze doorbraken zou de Wet van Moore tot een einde komen. De Wet van Moore is de observatie dat het aantal transistors in IC’s ongeveer elke twee jaar verdubbelt.
Atomic Force Microscopy (AFM) is een bekende technologie en wordt vaak toegepast in onderzoek. Een AFM-systeem maakt gebruik van een atoomscherpe tip om het oppervlak van het onderzochte monster te scannen, zonder het aan te raken, om het patroon erop te herkennen. AFM werd echter altijd te langzaam beschouwd voor industriële toepassingen. Vijf jaar geleden startte TNO het NOMI (Nano Opto-Mechatronics Instrumentation) programma waarin wetenschappelijk onderzoek gecombineerd wordt met toepassingsknowhow . Dit heeft geleid tot meerdere verbeteringen van deze technologie, waardoor de AFM tot 1000x sneller kan worden gemaakt dan de traditionele AFM -technologie. Dit maakt de AFM-oplossing van Nearfield Instruments van groot belang voor de halfgeleiderindustrie, zo vindt TNO.
